产品用途
结合光学显微镜与白光干涉仪功能的扫描式白光干涉显微镜，结合显微物镜与干涉仪、不需要复杂光调整程序，兼顾体积小、纳米分辨率、易学易用等优点，可提供垂直扫描高度达400um的微三维测量，适合各种材料与微组件表面特征和微尺寸检测。应用领域包含：玻璃镜片、镀膜表面、晶圆、光碟/影碟、精密微机电元件、平面液晶显示器、高密度线路印刷电路板、IC封装、材料分析与微表面研究等。
产品特点
● 纳米深度3D检测 ● 高速、无接触量 ● 表面形状、粗糙度分析 ● 非透明、透明材质皆适用 ● 非电子束、非雷射的安全量测 ● 低维护成本
专业级的3D图形处理与分析软体（Post Topo）
●  提供多功能又具友好界面的3D图形处理与分析 ●  提供自动表面平整化处理功能 ●  提供高阶标准片的软件自校功能 ●  深度、高度分析功能提供线型分析与区域分析等两种方式 ●  线型分析方式提供直接追溯ISO定义的表面粗糙度（Rorghness）与起伏度 ●  （waviness）的测量分析。可提供多达17种的ISO量测参数与4种额外量测数据（Wafer） ●  区域分析方式提供图形分析与统计分析 ●  具有平滑化、锐化与数字过滤波等多种二维快速利叶转换（FFT）处理功能 ●  量测分析结果以BMP等多种图形档案格式输出或是Excel文本文件格式输出
高速精密的干涉解析软件(ImgScan)
● 系统硬件搭配ImgScan前处理软件自动解析白光干涉条纹 ● 垂直高度可达0.1nm ● 高度的分析算法则，让你不在苦候测量结果 ● 垂直扫描范围的设定轻松又容易 ● 有10X、20X、50X倍率的物镜可供选择 ● 平台XYZ位置数显示，使检标的寻找快速又便利 ● 具有手动/自动光强度调整功能以取得最佳的干涉条纹对比 ● 具有高精度的PVSI与高速VSI扫描测量模式供选择 ● 具有专利的解析算法则可处理半透明物体的3D形貌 ● 具有自动布补点功能 ● 可自行设定扫描方向
技术规格参数
型号	XVM-100M
移动台(mm)	平台尺寸100*100 ，行程13*13
物镜放大倍率			10X	20X	50X
观察与量测范围(mm)			0.43*0.32	0.21*0.16	0.088*0.066
光学分辨力(μm)			0.92	0.69	0.5
收光角度(Degrees)			17	23	33
工作距离			7.4	4.7	3.4
传感器分辨率	640*480像素
机台重量(kg)/载重kg	20kg/小于1kg
Z轴移动范围	45mm , 手动细调
Z轴位置数字显示器	分辨力1μm
倾斜调整平台	双轴/手动调整
高度测量
测量范围	100(μm)(400μm ,选配)
量测分辨力	0.1mm
重复精度	≤ 0.1％ (量测高度:>10μm) ≤10nm(量测高度1μm   10μm) ≤ 5nm(量测高度:<1μm )
量测控制	自动
扫描速度(μm/s)	12(最高)
光源
光源类型	仪器用卤素（冷）光源
平均使用寿命	1000小时100W      500小时（150W）
光强度调整	自动/手动
数据处理与显示用计算机
中央处理运算屏幕	双核心以上CUP
影像与数据显示屏幕	17 " 双晶屏幕
操作系统	Windows XP(2)
电源与环境要求	AC100 --240 V     50-60Hz
环境振动	VC-C等级以上
测量分析软件
量测软件ImgScan	ImgScan测量软件：具VSI/ PVSI/PSI 测量模式（PSI量测模式需另选配PSI模块搭配）
分析软件PosTopo	ISO 粗燥度/阶高分析，快速传利叶转换和滤波，多样的2D和3D 观测视角图，外形/面积/体积分析，图像缩放、标准影像文件格式转换 报表输出，程序教导测量等。